在濾光片的加工過程中，由于部分濾光片成本的高昂性，在濾光片薄膜制備過程中，我們會將一類輔助基片與制備目標基片（如濾光片）一共放進鍍膜機內進行鍍膜，通常這類輔助基片為小尺寸的玻璃、硅片或其他材料，其核心作用是實時監控鍍膜工藝參數（如膜層厚度、折射率），確保目標濾光片的性能符合設計要求，這類輔助基片就是陪鍍片（Monitor Chip 或 Witness Sample）

一、陪鍍片的核心作用

在濾光片制造和測試中，陪鍍片承擔各種作用，如工藝監控、均勻性驗證、性能標定、失效分析等。

1.工藝監控通過測量陪鍍片上的膜層厚度和光學常數（折射率、消光系數），間接反映目標濾光片的鍍膜質量，避免直接測量濾光片時可能造成的損傷或污染。  

2. 陪鍍片與濾光片在鍍膜機內處于相同位置或對稱分布，通過對比兩者的膜厚差異，評估鍍膜機的空間均勻性，從而完成驗證。

3. 性能標定則是利用陪鍍片的測試數據（如透射率、反射率曲線）校準鍍膜設備的參數，優化后續生產批次的一致性。  

4. 針對濾光片性能不達標的失效分析，可通過分析陪鍍片的膜層結構（如SEM、橢偏儀數據）追溯工藝問題（如膜層應力、缺陷）。  

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三、陪鍍片在濾光片測試中的具體應用

1. 光譜性能測試

透射率/反射率測量：陪鍍片與濾光片同步鍍膜后，用分光光度計測試其光譜曲線，驗證膜系設計是否實現（如帶通濾光片的中心波長、截止陡度）。舉例：若陪鍍片的透射峰值波長偏離設計值5nm，則目標濾光片可能需調整鍍膜時間或速率。  

2. 膜厚控制

通過橢偏儀或臺階儀測量陪鍍片的膜厚，反推濾光片的實際膜厚（如1/4波長光學厚度控制）。  

關鍵點：陪鍍片與濾光片的基底材料需一致，避免因熱膨脹系數差異導致膜厚誤差。  

3. 環境穩定性測試

將陪鍍片與濾光片一同進行高溫高濕老化實驗，對比老化前后光譜變化，評估膜層耐久性。  

4. 生產一致性保障

在大批量生產中，每批次抽取陪鍍片測試，確保不同批次濾光片的性能波動在允許范圍內（如中心波長偏差±1nm）。  

四、陪鍍片的選擇與制備要求  

五、陪鍍片與濾光片測試的關聯案例

案例1：帶通濾光片的中心波長校準

問題：某紅外帶通濾光片實測中心波長為780nm，偏離設計的800nm。  

分析：檢查陪鍍片的橢偏儀數據，發現SiO?膜層厚度比設計值薄8%。  

解決：調整鍍膜機的蒸發速率，延長鍍膜時間，后續批次波長達標。  

案例2：膜層附著力失效

現象：濾光片邊緣出現脫膜。  

診斷：陪鍍片的SEM顯示膜層-基底界面存在污染，追溯至鍍膜前清洗不徹底。  

六、陪鍍片的局限性

1. 間接性：陪鍍片數據僅能間接反映濾光片性能，若鍍膜機均勻性差，兩者可能存在偏差。  

2. 小尺寸限制：大尺寸濾光片（如＞200mm）需多點放置陪鍍片，增加成本。  

3. 動態工藝監控不足：傳統陪鍍片無法實時反饋鍍膜過程中的參數波動（需結合晶控儀等在線監測）。  

七、未來發展趨勢

1. 智能陪鍍片：集成傳感器（如光纖光柵），實時傳輸膜厚和應力數據。  

2. 虛擬陪鍍片：通過鍍膜機仿真軟件預測膜層性能，減少實物陪鍍片的使用。  

3. 標準化數據庫：建立陪鍍片測試數據與濾光片性能的關聯模型，提升工藝優化效率。  

陪鍍片作為濾光片制造中的“工藝影子”，雖不直接參與光學系統工作，卻是保障濾光片性能一致性和可靠性的關鍵環節。從實驗室研發到工業化生產，其精細化應用將持續推動光學薄膜技術的進步。